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自持金剛石厚膜上沉積生長ZnO薄膜及發(fā)光特性
采用磁控濺射在自持CVD金剛石厚膜的成核面上制備了ZnO薄膜,并實驗研究了其生長特性和發(fā)光特性隨O2和Ar流量的變化.利用X射線衍射(XRD)、光致發(fā)光(PL)光譜、電子探針(EPMA)和霍爾測量對樣品進行了檢測.結果表明,在O2/Ar比值約為1時沉積得到的ZnO薄膜取向較一致,呈現高阻的狀態(tài)并且發(fā)光性能最好.
作 者: 孫劍 白亦真 谷建峰 劉明 張慶瑜 姜辛 SUN Jian BAI Yi-zhen GU Jian-feng LIU Ming ZHANG Qing-yu JIANG Xin 作者單位: 孫劍,白亦真,劉明,張慶瑜,SUN Jian,BAI Yi-zhen,LIU Ming,ZHANG Qing-yu(大連理工大學,三束材料改性國家重點實驗室,遼寧,大連,116023;大連理工大學,物理與光電工程學院,遼寧,大連,116023)谷建峰,姜辛,GU Jian-feng,JIANG Xin(大連理工大學,三束材料改性國家重點實驗室,遼寧,大連,116023)
刊 名: 發(fā)光學報 ISTIC PKU 英文刊名: CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE 年,卷(期): 2008 29(3) 分類號: O482.31 關鍵詞: 聲表面波濾波器 金剛石 ZnO薄膜 磁控濺射【自持金剛石厚膜上沉積生長ZnO薄膜及發(fā)光特性】相關文章:
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