氟羥磷灰石通道離子的FTIR研究

以傅立葉變換紅外光譜為表征手段,對合成的氟羥磷灰石通道離子進行研究.結(jié)果發(fā)現(xiàn):F-離子替換羥基后,羥基在3573和634 cm-1的振動吸收帶強度減弱,而在3542 、678 、715和736 cm-1左右出現(xiàn)新的振動譜帶,且隨F-離子含量不同出現(xiàn)規(guī)律性變化.新出現(xiàn)的譜帶數(shù)目與群論推測的結(jié)果相符,表明該譜帶屬于羥基基團;羥基振動吸收帶的變化,表明F-離子替換羥基的位置,形成[OH…F]氫鍵,使羥基的伸縮振動向低頻偏移,彎曲振動向高頻偏移.另外,通過3542～3573cm-1和715～736cm-1左右的譜帶相對面積比與F-含量的關(guān)系,可為F-離子替換羥基行為提供一些依據(jù).

作 者： 許濤 劉羽 XU Tao LIU Yu   作者單位： 武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,武漢,430073  刊 名： 光散射學(xué)報  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LIGHT SCATTERING  年，卷(期)： 2007 19(1)  分類號： P578 O657  關(guān)鍵詞： 氟羥磷灰石   通道離子   FTIR   群論  

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